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  • 科晶大功率实验室真空高温管式炉内膛中嵌有ZrO2内衬,并采用Kanthal Super-1900硅钼棒为加热元件,Z高温度可以达到1800℃,广泛用于真空或惰性气体保护状态下,新材料样品的烧结和退火。

    更新时间:2022-07-12
    型号:GSL-1800X
    厂商性质:生产厂家
  • 实验室真空高温管式炉采用1800℃级硅钼棒为加热元件,Z高温度可达到1700℃,可广泛地用于真空或惰性气体保护状态下材料的烧结和退火。

    更新时间:2022-07-12
    型号:GSL-1700X
    厂商性质:生产厂家
  • 实验室科晶高温真空管式炉是小型高温管式炉,采用高纯氧化铝刚玉炉管和硅碳棒加热元件,设有两个真密封法兰,控制系统采用高精度可控硅移相触发控制,其控温精度为±1℃,可设置30段升降温程序,Z高温度可达1500℃

    更新时间:2022-07-12
    型号:GSL-1500X
    厂商性质:生产厂家
  • 1200℃单温区开启式真空管式炉专为高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业,在可控多种气氛及真空状态下,对金属、非金属及其它化合物进行烧结、熔化、分析而研制的设备。

    更新时间:2022-07-12
    型号:OTF-1200X
    厂商性质:生产厂家
  • 1200℃开启式双温区管式炉zui高温度可达到1200℃,并可通过调节两个独立的控温程序,使炉管内温度场形成一梯度。本机可用CVD方法来生长纳米材料和制作各种薄膜。

    更新时间:2022-07-12
    型号:OTF-1200X-II
    厂商性质:生产厂家
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