科晶大功率实验室真空高温管式炉内膛中嵌有ZrO2内衬，并采用Kanthal Super-1900硅钼棒为加热元件，Z高温度可以达到1800℃，广泛用于真空或惰性气体保护状态下，新材料样品的烧结和退火。

实验室真空高温管式炉采用1800℃级硅钼棒为加热元件，Z高温度可达到1700℃，可广泛地用于真空或惰性气体保护状态下材料的烧结和退火。

实验室科晶高温真空管式炉是小型高温管式炉，采用高纯氧化铝刚玉炉管和硅碳棒加热元件，设有两个真密封法兰，控制系统采用高精度可控硅移相触发控制，其控温精度为±1℃，可设置30段升降温程序，Z高温度可达1500℃

1200℃单温区开启式真空管式炉专为高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业，在可控多种气氛及真空状态下，对金属、非金属及其它化合物进行烧结、熔化、分析而研制的设备。

1200℃开启式双温区管式炉zui高温度可达到1200℃，并可通过调节两个独立的控温程序，使炉管内温度场形成一梯度。本机可用CVD方法来生长纳米材料和制作各种薄膜。