科晶大功率实验室真空高温管式炉内膛中嵌有ZrO2内衬，并采用Kanthal Super-1900硅钼棒为加热元件，Z高温度可以达到1800℃，广泛用于真空或惰性气体保护状态下，新材料样品的烧结和退火。

实验室真空高温管式炉采用1800℃级硅钼棒为加热元件，Z高温度可达到1700℃，可广泛地用于真空或惰性气体保护状态下材料的烧结和退火。

实验室科晶高温真空管式炉是小型高温管式炉，采用高纯氧化铝刚玉炉管和硅碳棒加热元件，设有两个真密封法兰，控制系统采用高精度可控硅移相触发控制，其控温精度为±1℃，可设置30段升降温程序，Z高温...

1200℃单温区开启式真空管式炉专为高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业，在可控多种气氛及真空状态下，对金属、非金属及其它化合物进行烧结、熔化、分析而研制的设备。

1200℃开启式双温区管式炉zui高温度可达到1200℃，并可通过调节两个独立的控温程序，使炉管内温度场形成一梯度。本机可用CVD方法来生长纳米材料和制作各种薄膜。

实验室1200℃五温区开启式管式炉每个温区分别由独立的温控系统控制，通过调节各个温区的温度，可以在加热区内形成四段温度梯度，或形成较长的恒温区域。本机用于高等院校、科研院所、工矿企业等实验或小批量生产...

三温区开启式管式炉OTF-1200X-Ⅲ-S每个温区分别由独立的温控系统控制，具有控温精度高，保温效果好，温度范围大，温度均匀性高，温区多等特点。本机可通气氛抽真空，操作简单，安全可靠。

实验室1200℃微型开启式管式炉工作温度为1200℃，Z大功率为1200W，可配置直径为1″ 或2″的高纯石英炉管。炉管两端配置一对不锈钢法兰，设有机械压力表、不锈钢截止阀和宝塔嘴接头，允许样品在真空...