1200℃立式真空小管式炉是一款小型开启式立式管式炉，适合于对样品在真空或气氛保护环境下吊烧和淬火。采用PID控制器进行温度调节，可设置30段升降温程序，控温精度为± 1℃

双温立式炉厂家，其炉管直径可制作为100mm，适合于在真空或气氛保护环境下对样品进行吊烧和淬火。炉体下端装有一移动架，以便移动。

1200度小型坩埚移动管式炉是一款小型坩埚移动管式炉（通过磁铁推动坩埚移动），其炉管直径为50mm,炉体高工作温度为1200℃，此款设备设计针对于直接蒸发沉积或快速热处理实验，用于二维材料的生长。

科晶1100度三温区管式炉，炉管直径达到11″。本机广泛用于真空或气氛保护环境下对材料进行烧结

实验室带校准系统管式炉配有 OMEGA 测温仪及K 型热电偶一套，将K型热偶从左端法兰安装于炉管内部，即可在OMEGA测温仪上读取样品实时温度。采用30段可编程温度控制仪，可根据实验要求设置所需要的升...

科晶单温区CVD真空管式炉是一款炉管内径为6″的真空管式炉，可以在不同气氛下，在Z大5″的基片上生长多种薄膜。

高校实验室大口径管式真空气氛炉采用高纯石英管，外径规格有6″、8″、8.5″、11″可选，并配有不锈钢法兰，可进行抽真空或通入其他气氛气体操作，主要用于大尺寸样品烧结的需求。

实验室1100℃多工位管式炉，专为制备小型样品而设计Z高温度可达1100℃。炉体可垂直或水平放置，以满足不同的应用，如样品加热、VSL、CVD 、淬火试验等。