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  • 实验室1200℃微型开启式管式炉工作温度为1200℃,Z大功率为1200W,可配置直径为1″ 或2″的高纯石英炉管。炉管两端配置一对不锈钢法兰,设有机械压力表、不锈钢截止阀和宝塔嘴接头,允许样品在真空...

  • 1200℃立式真空小管式炉是一款小型开启式立式管式炉,适合于对样品在真空或气氛保护环境下吊烧和淬火。采用PID控制器进行温度调节,可设置30段升降温程序,控温精度为± 1℃

  • 双温立式炉厂家,其炉管直径可制作为100mm,适合于在真空或气氛保护环境下对样品进行吊烧和淬火。炉体下端装有一移动架,以便移动。

  • 1200度小型坩埚移动管式炉是一款小型坩埚移动管式炉(通过磁铁推动坩埚移动),其炉管直径为50mm,炉体高工作温度为1200℃,此款设备设计针对于直接蒸发沉积或快速热处理实验,用于二维材料的生长。

  • 科晶1100度三温区管式炉,炉管直径达到11″。本机广泛用于真空或气氛保护环境下对材料进行烧结

  • 实验室带校准系统管式炉配有 OMEGA 测温仪及K 型热电偶一套,将K型热偶从左端法兰安装于炉管内部,即可在OMEGA测温仪上读取样品实时温度。采用30段可编程温度控制仪,可根据实验要求设置所需要的升...

  • 科晶单温区CVD真空管式炉是一款炉管内径为6″的真空管式炉,可以在不同气氛下,在Z大5″的基片上生长多种薄膜。

  • 高校实验室大口径管式真空气氛炉采用高纯石英管,外径规格有6″、8″、8.5″、11″可选,并配有不锈钢法兰,可进行抽真空或通入其他气氛气体操作,主要用于大尺寸样品烧结的需求。

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